镍电镀-塘厦智腾五金-镍电镀厂

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    2020-8-23

殷生
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化学镀镍在电子和计算机工业中应用得广,几乎涉及到每一种化学镀镍技术和工艺。许多新的化学镀镍工艺和材料正是根据电子和计算机工业发展的需要而研制开发出来的。在技术性能方面,除要求耐蚀耐磨之外,还具有可焊接、防扩散性、电性能和磁性能等要求。



化学镀镍是计算机薄膜硬磁盘制造中的关键步骤之一。主要是在经过精细加工的5086镁铝表面镀12.5um厚的镍磷合金层,为后续的真空溅射磁记录薄膜做预备。化学镀镍层含磷量为12%wt(原子百分比约20.5%)。镀层必须是低应力且为压应力。



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化学镀镍的技术特性及作用:表面硬度高:经本技术处理后,金属表面硬度可提高一倍以上,镍电镀厂,在钢铁及铜表面可达hv570。镀层经热处理后硬度达hv1000,工模具镀膜后一般寿命提高3倍以上。结合强度大:本技术处理后的合金层与金属基件结合强度增大,一般在350-400mpa条件下不起皮、不脱落、无气泡,与铝的结合强度可达102-241mpa。




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化学镀镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层,镀层中磷的分数为1%~l5%,控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔,耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或---为还原剂时,化学镀镍层是镍硼合金镀层,硼的含量为1%~7%。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层,含镍量可达到99.5%以上。




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